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发布时间：2009--0-4- |
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| 一种碱性硅晶片抛光液，它的pH值范围为8～13，粒径为15nm～ 150nm，它是由磨料、pH调节剂、表面活性剂和水混合组成，其中磨料占10～50％，pH调节剂占1～6％，表面活性剂占0.01～0.6％，水占44～89％。本发明的优越性在于：该抛光液是碱性，不腐蚀污染设备，容易清洗；硅抛光速率快，平整性好，表面质量好；使用不含金属离子的鳌合剂，对有害金属离子的鳌合作用增强；采用非离子型表面活性剂，能对磨料和反应产物从衬底表面有效的吸脱作用，抛光后易于清洗；对环境无污染；抛光液具有良好的流动性，提高质量传输的一致性，降低表面的粗糙度；工艺简单，成本低，降低了销售价格，具有良好的商业开发前景。 |
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