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发布时间：2011--0-6- |
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| 本发明为真空封闭式坩埚下降法生长掺铊碘化钠(NaI(Tl))单晶体的新工艺技术，属于碘化钠晶体的单晶生长领域。在内部衬有与掺铊碘化钠熔体不发生化学反应的物质、且底部为锥形的石英坩埚内加入碘化钠原料，在真空度优于5×10-3Pa的状态下进行热处理，逐步升温到300℃后恒温至少8个小时，在真空度保持不变的情况下降至室温；之后向所述石英坩埚内部加入掺杂原料碘化铊，进行二次抽真空和热处理，直至达到真空度优于3×10-3Pa并且温度为200℃的状态，在此状态下恒温至少8个小时，并对石英坩埚口进行封口处理，之后按照本技术领域公知的下降法生长掺铊碘化钠单晶体。 |
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