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电沉积金-碳化硅复合镀层
发布时间:2007--0-3-

[摘要] 一种用于继电器触点的抗电侵蚀的耐磨复合镀层,是用电镀方法沉积在铜合金或其他金属基体上.复合镀层中弥散有占镀层体积0.1-10%,粒径小于0.5微米的SiC微粒.这种金基复合镀层具有比纯金高的显微硬度,低的摩擦系数,接触电阻略大于金,但低于金合金,并且耐电侵蚀性、抗腐蚀及抗变色能力强.这种Au-SiC复合镀层可在含有SiC微粒的,氰化物的、酸性的及亚硫酸盐的镀金溶液中获得.

[权项] 一种以金为基的复合镀层用于继电器的电触点,其特征在于在铜合金或其他金属基体上沉积一层Au-SiC复合镀层。复合镀层中弥散有占镀层体积0.1~10%的SiC微粒,粒径小于0.5微米。

 

 
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