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发布时间：2007--0-8- |
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| 提供在基片表面涂布有机抗反射涂层的改进方法和所产生的前体结构。概括地说，该方法包括使抗反射化合物化学沉积(CVD)到基片表面上。在一个实施方式中，所述的化合物高度应变(如应变能至少约为10千卡/摩尔)，并包含两个经连接基团相连的环状部分。最优选的单体是[2.2](1，4)-萘并烷(naphthalenophane)和[2.2](9，10)-蒽并烷(anthracenophane)。CVD法包括对抗反射化合物加热使其蒸发，然后使蒸发的化合物热解成稳定的双自由基，后者随后聚合到沉积室中的基片表面上。本发明方法用于在具有超亚微米(不大于0.25微米)细部的大基片表面上提供高度保形的抗反射涂层。 |
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