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发布时间:2006--0-3- |
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【申请(专利)号】 |
CN97116249.2 |
【申请日】 |
1997.08.22 |
【名称】 |
制备芳族化合物的方法 |
【公开(公告)号】 |
CN1186795 |
【公开(公告)日】 |
1998.07.08 |
【主分类号】 |
C07B35/06 |
【分类号】 |
C07B35/06;C07C69/78;C07C67/307 |
【颁证日】 |
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【优先权】 |
1996.8.22 US 60/024398; 1997.6.16 US 08/876,211 |
【申请(专利权)人】 |
罗姆和哈斯公司 |
【地址】 |
美国宾夕法尼亚州 |
【发明(设计)人】 |
希瑟·林恩耐特·雷勒; 兰德尔·韦恩·斯蒂芬斯 |
【国际申请】 |
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【国际公布】 |
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【进入国家日期】 |
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【专利代理机构】 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
【代理人】 |
王达佐 |
【摘要】 |
提供了使芳族起始物质选择性脱卤制备芳族化合物的方法。可以制备被F,Cl或溴取代的化合物。该方法亦可用于从不需要卤化的位置去除卤素原子的方法,以及用于从起始物质混合物形成基本上纯的卤代化合物。本方法使用铜催化剂及某种酸,并且通过芳环上的定位基团控制卤化作用。 |
【主权项】 |
制备芳族和杂芳族化合物的方法,该方法通过加热反应混合物选择性地从卤代的芳族和杂芳族化合物中除去卤素原子,所述反应混合物包含:(i)含有定位基团Z,及一或两个与所述Z基团邻位的独立选自氯,溴及碘的卤素基团的至少一种芳族或杂芳族化合物,或含有Z定位基团及与所述Z基团邻位的独立选自氨,溴及碘的一个或两个卤素基团的被进一步取代的芳族或杂芳族化合物,(ii)对于每当量要被去除的卤素基团,约0.01至5.0摩尔当量的含铜的脱卤剂,及(iii)对于每当量被去除的卤素基团,至少约1.0摩尔当量的一或多种酸,所述酸选自脂族(C↓[1]-C↓[10])羧酸,脂族(C↓[2]-C↓[10])二羧酸,芳族羧酸,芳族二羧酸,含水无机酸,磺酸及它们的混合物;其中Z定位基团是CO↓[2]R↑[10],CONR↑[11]R↑ [12],COR↑[13]或氰基,R↑[10],R↑[11]及R↑[12]各自独立地为氢原子,(C↓[1]-C↓[6])烷基,芳基或取代的芳基,及R↑[13]为氢原子,(C↓[1]-C↓[6])烷基,取代的(C↓[1]-C↓[6])烷基,芳基或取代的芳基。 | |
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